雙靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
單靶濺射、雙靶共濺、交替濺射

Name: 雙靶磁控濺射鍍膜儀INS-12MC
Brand: 其他品牌
Availability: InStock

產(chǎn)品型號(hào)：INS-12MC

更新時(shí)間：2026-04-20

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

訪問量：399

產(chǎn)品咨詢 18600717106

產(chǎn)品分類

技術(shù)文章

高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀設(shè)備的工作核心原理

高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀主要由以下系統(tǒng)組成

科研型臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀介紹

核心技術(shù)揭秘：離子濺射儀的工作原理與獨(dú)特設(shè)計(jì)特點(diǎn)剖析

詳細(xì)介紹在線留言

INS-12MC

?單靶濺射、雙靶共濺、交替濺射

?一鍵鍍膜，全自動(dòng)操作可編程自定義多層膜制備參數(shù)

?磁控濺射，薄膜顆粒更小滿足高分辨率看樣需求

?7寸觸摸屏，工作參數(shù)實(shí)時(shí)查看

?配備防污染系統(tǒng)有效保護(hù)鍍膜組件

?標(biāo)配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)薄膜均勻性更好

主要參數(shù)
外形尺寸	278(L)×494(H)×467(D) mm	濺射靶頭	平面磁控冷濺射靶頭
靶材尺寸	Φ50mm，厚度支持0.1-2mm	可用靶材	Au/Pt/Ag/Cu/Pd等五種靶材
工作電流	1-50mA可調(diào)（步長(zhǎng)：1mA）	鍍膜時(shí)間	1-9999s可調(diào)（步長(zhǎng)：1s）
真空泵	旋片泵（可選干泵）	主真空泵抽速	2L/s
真空室	170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一體加工金屬腔室	極限真空	≤0.5Pa
工作介質(zhì)	氬氣/氮?dú)?空氣	工作真空	1-20Pa可調(diào)
供電	AC220V/50Hz	額定功率	＜800W
預(yù)濺射	全自動(dòng)預(yù)濺射清潔功能，配合預(yù)濺射擋板，防止樣品污染、提高鍍膜純度
樣品臺(tái)	支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能
其它	真空度、工作電流可實(shí)時(shí)曲線顯示