高真空碳金一體鍍膜機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
滿足各種掃描電鏡導(dǎo)電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求

Name: 高真空碳金一體鍍膜機(jī)INS-H32MTC
Brand: 其他品牌
Availability: InStock

產(chǎn)品型號(hào)：INS-H32MTC

更新時(shí)間：2026-04-20

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

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技術(shù)文章

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INS-H32MTC

?磁控濺射+熱蒸發(fā)鍍碳雙功能

?滿足各種掃描電鏡導(dǎo)電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求

?多功能樣品臺(tái)支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能

?雙功能一鍵切換一鍵鍍膜，全自動(dòng)操作

?雙組件均配備防污染系統(tǒng)有效保護(hù)鍍膜組件

?進(jìn)口分子泵極限真空優(yōu)于5E-3Pa

主要參數(shù)
外形尺寸	278(L)×494(H)×467(D) mm	供電要求	AC220V/50Hz ＜1000W
濺射靶材	Φ50mm，厚度0.1-2mm	可用靶材	所有金屬、導(dǎo)電材料等
工作電流	1-200mA可調(diào)（步長：1mA）	鍍膜時(shí)間	1-9999s可調(diào)（步長：1s）
蒸發(fā)源	高純碳纖維	蒸發(fā)模式	閃斷模式、脈沖模式
真空室	170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一體加工金屬腔室	極限真空	≤5×10-3Pa
真空泵	旋片泵（可選干泵）+分子泵	主真空泵抽速	90L/s
預(yù)濺射	全自動(dòng)預(yù)濺射系統(tǒng)，防止樣品污染及組件污染、提高鍍膜純度
樣品臺(tái)	Φ80mm，支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能
其它	真空度、工作電流可實(shí)時(shí)曲線顯示