18600717106
產(chǎn)品分類
大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反應(yīng)，即依次將前驅(qū)體引入到基底上，每次循環(huán)形成一層原子級薄膜。這種精確的控制使得能夠沉積出無缺陷且可重復(fù)的超薄薄膜，從光滑表面到復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)(如溝槽、多孔材料、纖維、膜和納米管)都能實現(xiàn)。
更新時間：2026-07-20
產(chǎn)品型號：AT-LT
瀏覽量：1203
市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng) 兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
更新時間：2026-07-20產(chǎn)品型號：AT 200M瀏覽量：4194關(guān)注公眾號
Copyright © 2026 北京盈思拓科技有限公司版權(quán)所有
技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 管理登錄 備案號：京ICP備2024075675號-2
sitemap.xml
當(dāng)前位置：
電鏡樣品制備